Improved deep-etched multilayer grating reconstruction by considering etching anisotropy and abnormal errors in optical scatterometry
Improved deep-etched multilayer grating reconstruction by considering etching anisotropy and abnormal errors in optical scatterometry
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通过考虑蚀刻各向异性和光学散射测量中的异常误差改进深蚀刻多层光栅重建
DOI：
10.1364/ol.40.000471
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
3.6
通讯作者：
Chen Xiuguo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Zhu Jinlong;Liu Shiyuan;Jiang Hao;Zhang Chuanwei;Chen Xiuguo
