N.Kato,K.Takeda,Y.Nagasaki,M.Kato: "Poly[4-{bis(trimethylsily)methyl}styrene]for an Electron‐beam Resist with High Resolution" Indst.&Eng.Chemistry Res.(in press).
N.Kato,K.Takeda,Y.Nagasaki,M.Kato: "Poly[4-{bis(trimethylsily)methyl}styrene]for an Electron‐beam Resist with High Resolution" Indst.&Eng.Chemistry Res.(in press).
复制标题
N.Kato、K.Takeda、Y.Nagasaki、M.Kato：“用于高分辨率电子束抗蚀剂的聚[4-{双（三甲基硅基）甲基}苯乙烯]”工业与工程化学研究（出版中） ）。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
