Epitaxial ferroelectric Y-doped HfO2 film grown by the RF magnetron sputtering
Epitaxial ferroelectric Y-doped HfO2 film grown by the RF magnetron sputtering
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射频磁控溅射外延生长铁电Y掺杂HfO2薄膜
DOI：
10.7567/jjap.57.11uf15
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Hiroshi Funakubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Taisei Suzuki;Takao Shimizu;Takanori Mimura;Hiroshi Uchida;and Hiroshi Funakubo
