Oxidation kinetics of metal films at 300 K studied by the piezoelectric quartz crystal microbalance technique
Oxidation kinetics of metal films at 300 K studied by the piezoelectric quartz crystal microbalance technique
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压电石英晶体微天平技术研究金属薄膜300 K氧化动力学
DOI：
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发表时间：
1991
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
E. Fromm
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Cichy;E. Fromm
