Reactive Ion Etching of CVD Diamond Thin Films in 02/CF4 Plasma
Reactive Ion Etching of CVD Diamond Thin Films in 02/CF4 Plasma
复制标题
02/CF4 等离子体中 CVD 金刚石薄膜的反应离子刻蚀
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Arai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Misu;M.Goto;T.Arai
