RFスパッタリング方によるYSZ薄膜の配向性Arガス流入量の関係
RFスパッタリング方によるYSZ薄膜の配向性Arガス流入量の関係
复制标题
YSZ薄膜取向Ar气流入量与射频溅射方法的关系
DOI：
--
复制
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
佐伯淳
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
三輪省吾;橋爪隆;佐伯淳
