メモリ応用に向けた(Al,Sc)N 膜の薄膜化の検討
メモリ応用に向けた(Al,Sc)N 膜の薄膜化の検討
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用于存储器应用的薄化(Al,Sc)N薄膜的研究
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
舟窪浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
安岡慎之介; 大田怜佳; 岡本一輝; 石濱圭佑; 清水荘雄; 角嶋邦之; 上原雅人; 山田浩志; 秋山守人; 小金澤智之; L. S. Kumara;O. Seo; 坂田修身; 舟窪浩
