N_2ガスをドーピング原料としたn型ナノ結晶3 C-SiC薄膜の開発
N_2ガスをドーピング原料としたn型ナノ結晶3 C-SiC薄膜の開発
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以N_2气体为掺杂材料的n型纳米晶3C-SiC薄膜的研制
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
近藤明弘
中科院分区：
文献类型：
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作者：
星出純希;田畑彰守;北川明彦;近藤明弘
