光励起CVD法による酸化チタン薄膜の作製

光励起CVD法による酸化チタン薄膜の作製
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光激发CVD法制备氧化钛薄膜

DOI:
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发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
東 章敏
東 章敏
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
H.HASEGAWA;R.SUMI;K.KASHIWAGI and H.IMAGAWA;S.Somekawa;S. Somekawa;S. Somekawa;村尾 聡;S. Murao;村尾聡;東 章敏

文献摘要

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