Remanent Si–H Interactions in Late Transition Metal Silane Complexes†
Remanent Si–H Interactions in Late Transition Metal Silane Complexes†
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后过渡金属硅烷配合物中剩余的 SiâH 相互作用
DOI：
10.1002/zaac.201200525
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
W. Scherer
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
C. Hauf;J. E. Barquera-Lozada;P. Meixner;G. Eickerling;S. Altmannshofer;D. Stalke;T. Zell;D. Schmidt;U. Radius;W. Scherer
一般来说，假设硅烷和后过渡金属片段之间的反应产生甲硅烷基氢化物物质作为氧化加成产物。然而，硅烷络合物Ni（iPr 2 Im）2（SiHMePh 2）（iPr 2 Im = 1，3-二异丙基咪唑啉-2-亚基）（3a）可能代表其中分离出氧化加成过程的稳定η2-（Si-H）Ni中间体的罕见体系之一。实际上，3a的特征在于62.0（2）°的锐角Si-Ni-H角、1.992（6）°的相当短的Si-H键长，并且在Si-H-HMQC 2D-NMR研究中显示硅氢化物交叉峰。因此，我们选择了后者的系统相结合的实验和理论电荷密度研究，探索电子的先决条件，阻碍了过渡金属硅烷络合物的氧化加成步骤的完全完成，并导致存在的reflectance Si-H相互作用，在这些物种。
In general, it is assumed that the reaction between silanes and late transition metal fragments yields silyl hydride species as oxidative addition products. However, the silane complex Ni(iPr2Im)2(SiHMePh2) (iPr2Im = 1, 3‐diisopropylimidazolin‐2‐ylidene) (3a), might represent one of the rare systems where a stable η2‐(Si–H)Ni intermediate of the oxidative addition process has been isolated. Indeed,3ais characterized by an acute [ang]Si–Ni–H angle of 62.0(2)°, a rather short Si–H bond length of 1.992(6) Å and displays a silicon‐hydride cross peak in Si‐H‐HMQC 2D‐NMR studies. We therefore selected the latter system for a combined experimental and theoretical charge density study to explore the electronic prerequisites which hinder the full completion of the oxidative addition step in transition metal silane complexes and cause the presence of remanent Si–H interactions in these species.
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