H. Oyamada, Y. Shimogaki and H. Komiyama: "Control of Particle and Film Formation by Changing the Total Pressure in LPCVD - Preparation of SiC from SiH_4 and C_6H_6" Kagaku Kogaku Ronbunsyu. 16, 3. 463-468 (1990)
H. Oyamada, Y. Shimogaki and H. Komiyama: "Control of Particle and Film Formation by Changing the Total Pressure in LPCVD - Preparation of SiC from SiH_4 and C_6H_6" Kagaku Kogaku Ronbunsyu. 16, 3. 463-468 (1990)
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H. Oyamada、Y. Shimogaki 和 H. Komiyama：“通过改变 LPCVD 中的总压力来控制颗粒和薄膜的形成 - 从 SiH_4 和 C_6H_6 制备 SiC” Kagaku Kogaku Ronbunsyu。
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