过渡层(SiO_2,TiO_2)对F掺杂SnO_2薄膜的光电性能影响研究

过渡层(SiO_2,TiO_2)对F掺杂SnO_2薄膜的光电性能影响研究
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DOI:
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发表时间:
2015
期刊:
人工晶体学报
影响因子:
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通讯作者:
任洋
任洋
中科院分区:
其他
文献类型:
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作者:
高赟;赵高扬;任洋

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