K、Watanabe,Y.Nakayama,K、Wakita and T.Kawamura: "Preparation of aーSiH in SiH_4 plasma sustained by radio frequency superimposed on low frequency" Proceedings of the 8th Symposium on Plasma Processing. 253-256 (1991)
K、Watanabe,Y.Nakayama,K、Wakita and T.Kawamura: "Preparation of aーSiH in SiH_4 plasma sustained by radio frequency superimposed on low frequency" Proceedings of the 8th Symposium on Plasma Processing. 253-256 (1991)
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K、Watanabe、Y. Nakayama、K、Wakita 和 T. Kawamura：“在 SiH_4 等离子体中制备由射频叠加低频维持的 a-SiH”第八届等离子体处理研讨会论文集 253-256（1991 年）。
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