Synthesis of Novel p-type Nanocrystalline Silicon from SiH_2Cl_2 and SiCl_4 by Rf Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
Synthesis of Novel p-type Nanocrystalline Silicon from SiH_2Cl_2 and SiCl_4 by Rf Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
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射频等离子体增强化学气相沉积法从SiH_2Cl_2和SiCl_4合成新型p型纳米晶硅
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Shirai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Li;Y.Ikeda;Y.Toyoshima;H.Shirai
