Rapid deposition of porous ultra low-k films using pulse RF discharges with amplitude modulation
Rapid deposition of porous ultra low-k films using pulse RF discharges with amplitude modulation
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使用调幅脉冲射频放电快速沉积多孔超低 k 薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Shinya Iwashita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. IWASHITA;H. MIYATA;H. MATSUZAKI;K. KOGA;M. SHIRATANI;Shinya Iwashita;Shinya Iwashita;Shinya Iwashita;Shinya Iwashita;岩下伸也;岩下伸也;岩下伸也;Shinya Iwashita;Shinya Iwashita;岩下伸也;岩下伸也;Shinya Iwashita;Shinya Iwashita;Shinya Iwashita;Shinya Iwashita;Shinya Iwashita;Shinya Iwashita;岩下伸也;岩下伸也;Shinya Iwashita
