Y.Honda, et al: "Atomic-Order Layer Role-Share Etchig of Silicon Nitride Using an ECR Plasma" Plasma Processing XII. (印刷中). (1998)
Y.Honda, et al: "Atomic-Order Layer Role-Share Etchig of Silicon Nitride Using an ECR Plasma" Plasma Processing XII. (印刷中). (1998)
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Y.Honda 等人：“使用 ECR 等离子体进行氮化硅的原子顺序层角色共享蚀刻”等离子体处理 XII（出版中）。
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