Y.Horiike: "Initial Reaction of Fluorine with H-Terminated Si (111) Surface" IUVSTA Intern.Workshop on Plasma Sources and Surface Interactions in Material Processing,Fuji-Yoshida. 22 (1995)
Y.Horiike: "Initial Reaction of Fluorine with H-Terminated Si (111) Surface" IUVSTA Intern.Workshop on Plasma Sources and Surface Interactions in Material Processing,Fuji-Yoshida. 22 (1995)
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Y.Horiike：“氟与 H 端接的 Si (111) 表面的初始反应”IUVSTA 实习生。材料加工中的等离子体源和表面相互作用研讨会，Fuji-Yoshida。
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