六方晶窒化ホウ素挿入層によるイオン液体ゲーティング時における化学反応の抑制効果
六方晶窒化ホウ素挿入層によるイオン液体ゲーティング時における化学反応の抑制効果
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六方氮化硼插入层对离子液体浇注过程中化学反应的影响
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田中 秀和
中科院分区：
文献类型：
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作者：
滝川 潤;山本 真人;谷口 尚;渡邊 賢司;神吉 輝夫;田中 秀和
