Kunio Okimura: "Mass and Energy Analyses of Substrate-incident Ions in TiO2 Deposition by RF Magnetron Sputtering" Jpn. J. Appl. Phys.36巻・1A号. 303-318 (1997)
Kunio Okimura: "Mass and Energy Analyses of Substrate-incident Ions in TiO2 Deposition by RF Magnetron Sputtering" Jpn. J. Appl. Phys.36巻・1A号. 303-318 (1997)
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Kunio Okimura：“通过射频磁控溅射进行 TiO2 沉积中的基质入射离子的质量和能量分析”J. Appl. 第 36 卷，第 303-318 期（1997 年）。
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