Growth of crack-free AlGaN film on thin AlN interlayer by MOCVD
Growth of crack-free AlGaN film on thin AlN interlayer by MOCVD
复制标题
DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2004.04.109
复制
发表时间：
2004-07
影响因子：
1.8
通讯作者：
R. Jin;Junkai Liu;Junya Zhang;H. Yang
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
R. Jin;Junkai Liu;Junya Zhang;H. Yang
