Y.Banno, T.Icnino, H.Uchida, M.Ichimura, E.Arai and M.Yoshida: "Surface concentration dependence of diffusion profile shape for phosphorus in Si"Proceeding of 6^<th> Int.Workshop on BEAM INJECTION ASSESSMENT OF MICROSTRUCTURES IN SEMICONDUCTORS. (to be pu
Y.Banno, T.Icnino, H.Uchida, M.Ichimura, E.Arai and M.Yoshida: "Surface concentration dependence of diffusion profile shape for phosphorus in Si"Proceeding of 6^<th> Int.Workshop on BEAM INJECTION ASSESSMENT OF MICROSTRUCTURES IN SEMICONDUCTORS. (to be pu
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Y.Banno、T.Icnino、H.Uchida、M.Ichimura、E.Arai 和 M.Yoshida：“Si 中磷扩散轮廓形状的表面浓度依赖性”第 6 届光束注入国际研讨会论文集
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