A gas discharged based radiation source for EUV-lithography
A gas discharged based radiation source for EUV-lithography
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用于 EUV 光刻的基于气体放电的辐射源
DOI：
10.1016/s0167-9317(99)00034-9
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发表时间：
1999
影响因子：
2.3
通讯作者：
W. Neff
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Lebert;K. Bergmann;G. Schriever;W. Neff
