<i>In-Situ</i> Monitoring of Oxide Ion Induced Breakdown in Amorphous Tantalum Oxide Thin Film Using Acoustic Emission Measurement
<i>In-Situ</i> Monitoring of Oxide Ion Induced Breakdown in Amorphous Tantalum Oxide Thin Film Using Acoustic Emission Measurement
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使用声发射测量<i>原位</i>监测非晶钽氧化物薄膜中氧离子诱导的击穿
DOI：
10.2320/matertrans.m2014198
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发表时间：
2014
影响因子：
1.2
通讯作者：
Manabu Enoki and Shu Yamaguchi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Takashi Tsuchiya;Kaita Ito;Shogo Miyoshi;Manabu Enoki and Shu Yamaguchi
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通讯作者：
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--
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