Electrical properties of indium-tin oxide films deposited on nonheated substarte using a palanar-magnetron sputtering system and a facing target sputtering system
Electrical properties of indium-tin oxide films deposited on nonheated substarte using a palanar-magnetron sputtering system and a facing target sputtering system
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使用平面磁控溅射系统和面对靶溅射系统在非加热基板上沉积的氧化铟锡薄膜的电性能
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Makoto Kameyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hideo Iwase;Youichi Hoshi;Makoto Kameyama
