BEN処理を用いたSi基板上への高濃度Bドープダイヤモンド薄膜の作製と超伝導特性
BEN処理を用いたSi基板上への高濃度Bドープダイヤモンド薄膜の作製と超伝導特性
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BEN工艺在Si衬底上制备高浓度硼掺杂金刚石薄膜及超导性能
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
森本章治
中科院分区：
文献类型：
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作者：
吉田和弘;奥野央典;石井 聡;川江 健;飯山宏一;高野義彦;久米田稔;森本章治
