Effect of heat treatment on properties of Ni-Mn-Ga films prepared by a sputtering method
Effect of heat treatment on properties of Ni-Mn-Ga films prepared by a sputtering method
复制标题
热处理对溅射法制备Ni-Mn-Ga薄膜性能的影响
DOI：
10.3233/jae-2000-194
复制
发表时间：
2001
影响因子：
0.6
通讯作者：
K. Itagaki
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Ohtsuka;K. Itagaki
