Sputter Deposition of ScAlN Films by Reactive Sputtering Using Large Size ScAl Alloy Target with High Sc Content -- Impact of Nitridation of Sputtering Target --
Sputter Deposition of ScAlN Films by Reactive Sputtering Using Large Size ScAl Alloy Target with High Sc Content -- Impact of Nitridation of Sputtering Target --
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使用大尺寸高Sc含量ScAl合金靶材通过反应溅射沉积ScAlN薄膜--溅射靶材氮化的影响--
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and T.Omori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Hashimoto;M.Sumisaka;K.Yamazaki;S.Fujii;G.B.Tang;T.Han;Y.Suzuki;S.Otomo;and T.Omori
