Plasma oxidation process of silicon surfaces investigated by infrared spectroscopy
Plasma oxidation process of silicon surfaces investigated by infrared spectroscopy
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红外光谱研究硅表面的等离子体氧化过程
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masanori Shinohara 他6名
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masanori Shinohara;Masanori Shinohara;M.Shinohara;篠原 正典;柴田泰充;林 純一;M.Shinohara;H.Shibata;H.Shibata;J.Hayashi;J.Hayashi;Masanori Shinohara 他6名;Masanori Shinohara 他6名
