佐藤 解, 市川 公善, 林 寛, 小倉 政彦, 牧野 俊晴, 加藤 宙光, 竹内 大輔，猪熊 孝夫, 山崎 聡, 徳田 規夫, 松本 翼
佐藤 解, 市川 公善, 林 寛, 小倉 政彦, 牧野 俊晴, 加藤 宙光, 竹内 大輔，猪熊 孝夫, 山崎 聡, 徳田 規夫, 松本 翼
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佐藤聪、市川公吉、林浩、小仓正彦、牧野俊晴、加藤中光、竹内大辅、猪熊隆夫、山崎聪、德田则夫、松本翼
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
酸化膜堆積の連続プロセスによるダイヤモンドMOSFETのヒステリシス低減
中科院分区：
文献类型：
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作者：
表面終端処理;酸化膜堆積の連続プロセスによるダイヤモンドMOSFETのヒステリシス低減
