イオン照射によるシリコン基板の高抵抗化技術
イオン照射によるシリコン基板の高抵抗化技術
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通过离子照射提高硅基板电阻的技术
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松澤 昭
中科院分区：
文献类型：
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作者：
井上 剛;八木 宏親;李 寧;平野 拓一;岡田 健一;松澤 昭
