Y.Hayashi, S.Ishikawa, T.Soga, T.Jimbo: "Photovoltaic characteristics of boron-doped hydrogenated amorphous carbon on n-Si substrate prepared by r.f.plasma-enhanced CVD using trimethylboron"Diamond and Related Materials. 77. 105 (2003)
Y.Hayashi, S.Ishikawa, T.Soga, T.Jimbo: "Photovoltaic characteristics of boron-doped hydrogenated amorphous carbon on n-Si substrate prepared by r.f.plasma-enhanced CVD using trimethylboron"Diamond and Related Materials. 77. 105 (2003)
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Y.Hayashi、S.Ishikawa、T.Soga、T.Jimbo：“使用三甲基硼通过射频等离子体增强 CVD 制备的 n-Si 衬底上掺硼氢化非晶碳的光伏特性”金刚石和相关材料。
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