ADVANCES IN DEEP ANISOTROPIC SILICON ETCH PROCESSING FOR MEMS

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MEMS 深各向异性硅蚀刻加工的进展

DOI:
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发表时间:
2000
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
S. Watcham
S. Watcham
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
H. Ashraf;J. Bhardwaj;S. Hall;J. Hopkins;A. Hynes;I. Johnston;S. McAuley;G. Nicholls;Lilian Atabo;M. Ryan;S. Watcham

文献摘要

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