K.sasaki et al.: "Metallic Mode Ctrowth of ZrO_2 Based Thin Films for Gate Inculator Using Reactive Sputtering Technique"Proc, of 2001 AWAD. 93-97 (2001)
K.sasaki et al.: "Metallic Mode Ctrowth of ZrO_2 Based Thin Films for Gate Inculator Using Reactive Sputtering Technique"Proc, of 2001 AWAD. 93-97 (2001)
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K.sasaki等人：“使用反应溅射技术用于栅极绝缘体的ZrO_2基薄膜的金属模式生长”Proc，2001年AWAD。
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