In-situ FTIRを用いたプラズマ曝露および大気曝露によるポーラスSiOCH low-k膜の化学組成変化解析
In-situ FTIRを用いたプラズマ曝露および大気曝露によるポーラスSiOCH low-k膜の化学組成変化解析
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使用原位 FTIR 分析由于等离子体暴露和大气暴露而导致的多孔 SiOCH 低 k 薄膜的化学成分变化
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山本洋
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中坪太久郎;他;中坪太久郎;Keigo Nakamura;Keigo Nakamura;川崎浩司・菊雅美;山本洋
