Formation of Mechanically-Hard Amorphous Carbon Nitride Films Using Substrate Cooling and Pulsed RF-bias Voltage
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使用衬底冷却和脉冲射频偏置电压形成机械硬质非晶氮化碳薄膜
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Saitoh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Ito;K.Hori;H.Saitoh
