T.Mizokuro: "Mechanism of low temperature nitridation of silicon oxide layers by nitrogen plasma generated by low energy electron impact"Journal of Applied Physics. 85(5). 2921-2928 (1999)
T.Mizokuro: "Mechanism of low temperature nitridation of silicon oxide layers by nitrogen plasma generated by low energy electron impact"Journal of Applied Physics. 85(5). 2921-2928 (1999)
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T.Mizokuro：“低能电子撞击产生的氮等离子体对氧化硅层进行低温氮化的机制”应用物理学杂志。
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