反応性イオンエッチングを施した単結晶シリコン表面の機械的性質に及ぼす水素の影響
反応性イオンエッチングを施した単結晶シリコン表面の機械的性質に及ぼす水素の影響
复制标题
氢对反应离子蚀刻单晶硅表面机械性能的影响
DOI：
--
复制
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中村克，泉隼人，神谷庄司
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Nagakubo;H. Ogi;H. Ishida;M. Hirao;T. Yokoyama;and T. Nishihara;向山和孝，花木宏修，倉敷哲生;中村克，泉隼人，神谷庄司
