Hを含むプラズマによるSi基板ダメージ構造とその回復プロセスについての検討
Hを含むプラズマによるSi基板ダメージ構造とその回復プロセスについての検討
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含氢等离子体对硅基片损伤结构及其恢复过程的研究
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
斧高一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中久保義則;松田朝彦;深沢正永;鷹尾祥典;江利口浩二;辰巳哲也;斧高一
