Formation of β-FeSi2 by implanting multicharged iron ions produced in an ECR ion source
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DOI：
10.1016/j.nimb.2005.04.082
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发表时间：
2005-08
影响因子：
1.3
通讯作者：
Masashi Tomida;Y. Kato;T. Asaji
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masashi Tomida;Y. Kato;T. Asaji
