希ガス混合Si薄膜における酸素の低減化II
希ガス混合Si薄膜における酸素の低減化II
复制标题
稀有气体混合硅薄膜中的氧还原 II
DOI：
--
复制
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
奥村竜二，羽渕仁恵，飯田民夫，大橋史隆，伴 隆幸，久米徹二，野々村修一
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yutaka Sawada1,a;Hayato Ohkubo1;Fig8 Changes in effective refractive index of the films at 633 nm due to incidence angle. Yoshiyuki Seki1;Keh-moh Lin2,b;Kazuyuki Sano1;Shigeyuki Seki3,c;Takayuki Uchida1 and Yoichi Hoshi;奥村竜二，羽渕仁恵，飯田民夫，大橋史隆，伴 隆幸，久米徹二，野々村修一
