selective formation of silicon film by chemical transport technique using a high-pressure narrow-gap hydrogen plasma
selective formation of silicon film by chemical transport technique using a high-pressure narrow-gap hydrogen plasma
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利用高压窄间隙氢等离子体通过化学输运技术选择性形成硅膜
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Yasutake
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Ohmi;H. Kakiuchi;K. Yasutake
