Low temperature epitaxial growth of ZnO layer by plasma-assisted epitaxy
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DOI：
10.1016/s0040-6090(99)00096-6
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发表时间：
1999-05
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
S. Yamauchi;H. Handa;A. Nagayama;T. Hariu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Yamauchi;H. Handa;A. Nagayama;T. Hariu
