Volatile Products from Ligand Addition of P(CH3)3 to NiCl2, PdCl2, and PtCl2: Pathway for Metal Thermal Atomic Layer Etching
Volatile Products from Ligand Addition of P(CH3)3 to NiCl2, PdCl2, and PtCl2: Pathway for Metal Thermal Atomic Layer Etching
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P(CH3)3 配体添加到 NiCl2、PdCl2 和 PtCl2 中的挥发性产物：金属热原子层蚀刻的途径
DOI：
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发表时间：
2022
影响因子：
3.7
通讯作者：
S. George
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Ann Lii;Virginia L. Johnson;Sandeep Sharma;A. Fischer;T. Lill;S. George
影响因子：
2.2
作者：
Elham Mohimi;Xiaoqing Chu;Brian B. Trinh;Shaista Babar;G. Girolami;J. Abelson
通讯作者：
Elham Mohimi;Xiaoqing Chu;Brian B. Trinh;Shaista Babar;G. Girolami;J. Abelson