Characterization of high-pressure (200-760 Torr), stable glow plasma of pure hydrogen by measuring etching properties of Si and optical emission spectroscopy
Characterization of high-pressure (200-760 Torr), stable glow plasma of pure hydrogen by measuring etching properties of Si and optical emission spectroscopy
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通过测量硅的蚀刻特性和光学发射光谱来表征纯氢的高压（200-760托）稳定辉光等离子体
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kiyoshi Yasutake
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiromasa Ohmi;Hiroaki Kakuuchi;Yoshiki Ogiyama;Heiji Watanabe;Kiyoshi Yasutake
