RFマグネトロンスパッタリング法による{110}高配向Ba(Ce,Y)O3ペロブスカイト薄膜の作製
RFマグネトロンスパッタリング法による{110}高配向Ba(Ce,Y)O3ペロブスカイト薄膜の作製
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射频磁控溅射法制备{110}高取向Ba(Ce,Y)O3钙钛矿薄膜
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐藤 智也 一ノ瀬 大地 舟窪 浩 内山 潔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T Kariya;K Uchiyama;H Tanaka;T Hirono;T Kuse; K Yanagimoto;M Henmi;M Hirose;I Kimura;K Suu and H Funakubo;内山 潔 大島 直也 江原 祥隆 及川 貴弘 田中 宏樹 佐藤 智也 内田 寛 山田 智明 舟窪 浩;佐藤 智也 一ノ瀬 大地 舟窪 浩 内山 潔;佐藤 智也 一ノ瀬 大地 舟窪 浩 内山 潔;佐藤 智也 一ノ瀬 大地 舟窪 浩 内山 潔
