步进扫描投影光刻机剂量控制参数优化新算法研究

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DOI:
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发表时间:
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期刊:
光学学报
影响因子:
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通讯作者:
吴小健
吴小健
中科院分区:
其他
文献类型:
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作者:
刘世元;吴小健

文献摘要

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