Soichiro Okamura and Tadashi Shiosaki: "Analysis of the Electron-beam-induced Reaction in the Precursor Thin Films of Ferroelectric SrBiィイD22ィエD2TaィイD22ィエD2OィイD29ィエD2"Proc. of the 11th IEEE International Symposium on Applications of Ferroelectrics (ISAF).
Soichiro Okamura and Tadashi Shiosaki: "Analysis of the Electron-beam-induced Reaction in the Precursor Thin Films of Ferroelectric SrBiィイD22ィエD2TaィイD22ィエD2OィイD29ィエD2"Proc. of the 11th IEEE International Symposium on Applications of Ferroelectrics (ISAF).
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Soichiro Okamura 和 Tadashi Shiosaki：“铁电体 SrBiD22D2TaD22D2OD29D2 前体薄膜中电子束诱导反应的分析”第 11 届 IEEE 国际铁电体应用研讨会 (ISAF) 会议记录。
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