スパッタリング法による(Bi,Nd)(Ni_0.5Ti_0.5)O_3ペロブスカイト化合物薄膜の成長
スパッタリング法による(Bi,Nd)(Ni_0.5Ti_0.5)O_3ペロブスカイト化合物薄膜の成長
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溅射法生长(Bi,Nd)(Ni_0.5Ti_0.5)O_3钙钛矿化合物薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
ほか
中科院分区：
文献类型：
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作者：
多田 英人;ほか
