Nanopatterning mask fabrication by femtosecond laser irradiation
Nanopatterning mask fabrication by femtosecond laser irradiation
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通过飞秒激光照射制造纳米图案掩模
DOI：
10.1016/j.jmatprotec.2007.04.058
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Zengbo Wang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yichen Zhou;M. Hong;M. Hong;J. Fuh;Ling Lu;B. Luk’yanchuk;C. S. Lim;Zengbo Wang
