M.Fujinami, R.Suzuki, T.Ohdaira, and T.Mikado: "Characterization of H-related defects in H-implanted Si with slow positrons"Applied Surface Science. 149. 199-192 (1999)
M.Fujinami, R.Suzuki, T.Ohdaira, and T.Mikado: "Characterization of H-related defects in H-implanted Si with slow positrons"Applied Surface Science. 149. 199-192 (1999)
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M.Fujinami、R.Suzuki、T.Ohdaira 和 T.Mikado：“慢速正电子 H 注入硅中 H 相关缺陷的表征”应用表面科学。
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